(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

APARELHO DE GERAÇÃO DE PLASMA E USO DE UM APARELHO DE GERAÇÃO DE PLASMA

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · GB2010002031

Dados do pedido

Número

112012010526

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

03/11/2010

Publicação

15/03/2016

PCT

GB2010002031

Andamento no INPI

  1. Depósito03/11/10
  2. Publicação15/03/16
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

Falar com um especialista

Última movimentação publicada pelo INPI: 17/03/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

THE UNIVERSITY COURT OF THE UNIVERSITY OF GLASGOW

GB

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

D. D. (pessoa física)

GB

H. P. (pessoa física)

GB

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

GB

0919274.1 · 03/11/2009

Resumo técnico

APARELHO DE GERAÃÃO DE PLASMA E USO DE UM APARELHO DE GERAÃÃO DE PLASMA. Um aparelho de geração de plasma compreende um primeiro eletrodo alimentado e uma estrutura de segundo eletrodo localizada na frente do primeiro eletrodo. Uma camada isolante é interposta entre o primeiro eletrodo e a estrutura do segundo eletrodo. A estrutura do segundo eletrodo possui uma pluralidade de partes do segundo eletrodo definindo as parte de intervalo entre elas. A largura das partes de intervalos é w. As partes do segundo eletrodo possuem, cada uma, uma superfície anterior e as partes de intervalo tendo, cada uma, uma superfície anterior, a diferença de altura entre a superfície anterior de cada parte do segundo eletrodo e as superfícies anteriores das partes de intervalos adjacentes sendo h, e em que h é de no máximo 1 milímetro e a razão w I h é de pelo menos 1.Assim,as superfícies anteriores das partes do segundo eletrodo e as superfícies anteriores das partes de intervalos em conjunto fornecem uma topografia suave. O plasma gerado pelo aparelho (no ar ou outro gás contendo oxigénio) forma o ozônio, que pode ser utilizado para tratar a produtos alimentícios, por exemplo. A topografia suave permite que substancialmente todo o plasma seja gerado dentro de uma embalagem, cuja parede é pressionada contra a estrutura do segundo eletrodo.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

17/03/2020

RPI 2567

Exigência preliminar

#6.21

26/11/2019

RPI 2551

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

08/01/2019

RPI 2505

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

15/03/2016

RPI 2358

Alteração de dados cadastrais

#1.1

07/01/2014

RPI 2244

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.