Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
17/03/2020
RPI 2567
Dados do pedido
Número
112012010526Tipo
Depósito
Publicação
PCT
GB2010002031 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 17/03/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
THE UNIVERSITY COURT OF THE UNIVERSITY OF GLASGOW
GB
Inventores
D. D. (pessoa física)
GB
H. P. (pessoa física)
GB
Classificação IPC
Prioridades unionistas
GB
0919274.1 · 03/11/2009
Resumo técnico
APARELHO DE GERAÃÃO DE PLASMA E USO DE UM APARELHO DE GERAÃÃO DE PLASMA. Um aparelho de geração de plasma compreende um primeiro eletrodo alimentado e uma estrutura de segundo eletrodo localizada na frente do primeiro eletrodo. Uma camada isolante é interposta entre o primeiro eletrodo e a estrutura do segundo eletrodo. A estrutura do segundo eletrodo possui uma pluralidade de partes do segundo eletrodo definindo as parte de intervalo entre elas. A largura das partes de intervalos é w. As partes do segundo eletrodo possuem, cada uma, uma superfÃcie anterior e as partes de intervalo tendo, cada uma, uma superfÃcie anterior, a diferença de altura entre a superfÃcie anterior de cada parte do segundo eletrodo e as superfÃcies anteriores das partes de intervalos adjacentes sendo h, e em que h é de no máximo 1 milÃmetro e a razão w I h é de pelo menos 1.Assim,as superfÃcies anteriores das partes do segundo eletrodo e as superfÃcies anteriores das partes de intervalos em conjunto fornecem uma topografia suave. O plasma gerado pelo aparelho (no ar ou outro gás contendo oxigénio) forma o ozônio, que pode ser utilizado para tratar a produtos alimentÃcios, por exemplo. A topografia suave permite que substancialmente todo o plasma seja gerado dentro de uma embalagem, cuja parede é pressionada contra a estrutura do segundo eletrodo.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
17/03/2020
RPI 2567
#6.21
26/11/2019
RPI 2551
#6.6.1
08/01/2019
RPI 2505
#1.3
15/03/2016
RPI 2358
#1.1
07/01/2014
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