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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO MICROFLUÍDICO E PROCESSO PARA MEDIÇÃO ELETROQUÍMICA DE MICRO-RNA

PublicadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção DISPOSITIVO MICROFLUÍDICO E PROCESSO PARA MEDIÇÃO ELETROQUÍMICA DE MICRO-RNA de CEITEC - CENTRO NACIONAL DE TECNOLOGIA ELETRÔNICA AVANÇADA S.A. — IPC B01L 3/00
Patente de Invenção DISPOSITIVO MICROFLUÍDICO E PROCESSO PARA MEDIÇÃO ELETROQUÍMICA DE MICRO-RNA de CEITEC - CENTRO NACIONAL DE TECNOLOGIA ELETRÔNICA AVANÇADA S.A. — IPC B01L 3/00. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102020017927

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

02/09/2020

Publicação

15/03/2022

Andamento no INPI

  1. Depósito02/09/20
  2. Publicação15/03/22
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido publicado na RPI em 15/03/2022 e já visível a qualquer interessado. Segue para o exame técnico do INPI.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 15/03/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

CEITEC - CENTRO NACIONAL DE TECNOLOGIA ELETRÔNICA AVANÇADA S.A.

RS, BR

U. C. (pessoa física)

SC, BR

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Inventores

A. P. (pessoa física)

BR

A. C. (pessoa física)

BR

J. C. (pessoa física)

BR

L. O. (pessoa física)

BR

P. L. (pessoa física)

BR

R. T. (pessoa física)

BR

T. P. (pessoa física)

BR

V. Z. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

DISPOSITIVO MICROFLUÍDICO E PROCESSO PARA MEDIÇÃO ELETROQUÍMICA DE MICRO-RNA. A presente invenção descreve um dispositivo microfluídico e o processo para medição eletroquímica de micro-RNA, utilizando-se do conceito Lab on Chip, baseado em força inercial centrífuga para isolar o plasma sanguíneo e em uma câmara de reação eletroquímica, composto por um micro-canal em formato espiral ligado a uma câmara de ensaio, que possui uma área ativa em contato elétrico com um eletrodo de trabalho, um eletrodo de referência e um contra eletrodo.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Publicação do pedido de patente

#3.1

15/03/2022

RPI 2671

Pedido de patente depositado

#2.1

08/12/2020

RPI 2605

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870200111381' em 02/09/2020 10:52 (WB)

15/09/2020

RPI 2593

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