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Dado oficial do INPI

NOVA ARQUITETURA DE CONTROLE PARA EMISSÃO LASER DE PULSOS CURTOS E DISPOSITIVO DE AFERIÇÃO DE POTÊNCIA APLICADA EM EQUIPAMENTOS ELETROMÉDICOS OFTALMOLÓGICOS

Em AnálisePatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102019019515

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

19/09/2019

Publicação

30/03/2021

Andamento no INPI

Em recurso
  1. Depósito19/09/19
  2. Publicação30/03/21
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

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Última movimentação publicada pelo INPI: 07/07/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

OPTO ELETRÔNICA S/A.

SP, BR

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Inventores

A. F. (pessoa física)

BR

D. C. (pessoa física)

BR

M. S. (pessoa física)

BR

N. A. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

NOVA ARQUITETURA DE CONTROLE PARA EMISSÃO LASERDE PULSOS CURTOS E DISPOSITIVO DE AFERIÇÃO DEPOTÊNCIA APLICADA EM EQUIPAMENTOS ELETROMÉDICOSOFTALMOLÓGICOS. A presente invenção se refere a uma nova arquitetura de controle para emissão laser, em especial aqueles cuja amplificação laser é resultante de emissão estimulada em meio ativo de estado sólido, estimulada por bombeamento produzido por iluminação por diodo laser, conhecidos pela sigla DPSS, onde esta iluminação é controlada por dispositivos eletrônicos, de forma que seja possível a geração de pulsos muito rápidos, pelo monitoramento dinâmico do controle de chaveamento de potencia e do emprego de conjuntos de componentes ajustados de forma a terem comportamento dinâmico simulados mas equivalentes ao diodo emissor principal, permitindo que sejam feitas medições de atrasos e desvios internos de forma que o arranjo permita a continua aferição e calibração automática de suas partes internas , dos atrasos, desvios de desempenho e erro do circuito, de forma que a potência aplicada ao olho paciente, em especial em procedimentos oftalmológicos, esteja dentro das margens de segurança, e automaticamente compense esta emissão perante os fatores de envelhecimento e desgaste do dispositivo e que permita que os meios de envio do feixe ao olho do paciente seja aferido de forma correspondente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Anotação de limitação ou ônus

#25.13

ANOTAÇÃO DE LIMITAÇÃO OU ÔNUS Ref: Processo SEI/INPI 52402.011029/2026-35 Conforme determinado pelo Juiz Federal Substituto Douglas Belchior Souza da 1a Vara Federal de Ribeirão Preto/SP da Justiça Federal da 3a Região - 1o grau, fica anotada, de acordo com o art. 59, II, da LPI, a penhora do referido pedido de patente.

07/07/2026

RPI 2896

Petição de recurso

#12.2

Recurso: Petição 870250090628, de 04/10/2025

21/10/2025

RPI 2859

Indeferimento

#9.2

05/08/2025

RPI 2848

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

08/04/2025

RPI 2831

Publicação do pedido de patente

#3.1

30/03/2021

RPI 2621

Pedido de patente depositado

#2.1

28/01/2020

RPI 2560

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

31/12/2019

RPI 2556

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870190093738' em 19/09/2019 11:51 (WB)

01/10/2019

RPI 2543

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