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SUBSTRATO, PROCESSO PARA A MANUFATURA DO MESMO, E, APLICAÇÃO DO SUBSTRATO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · FR1999001375

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Application data

Number

PI9911148

Type

Invention Patent

Filing

06/10/1999

Publication

03/05/2003

PCT

FR1999001375

View on INPI

Progress at the INPI

Filing06/10/99
Publication03/05/03
Abandoned
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/27/2018. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

S. R. (pessoa física)

Inventors

A. M. (pessoa física)

C. M. (pessoa física)

X. T. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

B01D 53/86 B01D 53/88 B01J 35/00 C03C 25/26 C03C 25/42 C03C 25/47 C04B 111/50 C04B 111/52 C04B 30/02 C04B 41/00 C04B 41/45 C04B 41/48 C04B 41/49 C04B 41/50

Priority claims

98/07276 · 06/10/1998

Abstract

"SUBSTRATO, PROCESSO PARA A MANUFATURA DO MESMO, E, APLICAÇÃO DO SUBSTRATO". A invenção tem por objeto um substrato compreendendo um material fibroso e dotado, sobre pelo menos uma parte de sua superfície e/ou em sua espessura, de um revestimento com propriedades fotocatalíticas compreendendo um material semicondutor com propriedades fotocatalíticas do tipo óxido ou sulfeto. A invenção também por objeto seu processo de fabricação e suas aplicações.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Republicação - classificação IPC

#15.11

Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: C03C 25/02; C04B 41/50; B01J 35/02.

03/27/2018

RPI 2464

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao 8.6 da RPI 1879 de 09/01/2007.

05/02/2007

RPI 1895

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

referente á 5ª , 6ª , 7ª e 8ª anuidades.

01/09/2007

RPI 1879

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

03/05/2003

RPI 1678

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