Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
06/29/2004
RPI 1747
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Official data from INPI
COMPOSIÇÃO SUBSTRATO PARA ABSORÇÃO PERCUTÂNEA, E, PREPARAÇÃO DE ABSORÇÃO PERCUTÂNEA
ArquivadaInvention PatentPCT · JP1998001745
Application data
Number
PI9808594Type
Invention Patent
Filing
04/16/1998
Publication
05/23/2000
PCT
JP1998001745 Progress at the INPI
- Filing04/16/98
- Publication05/23/00
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 04/16/1998 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/29/2004. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Hisamitsu Pharmaceutical Co. Inc.
JP
Inventors
M. M. (pessoa física)
JP
M. H. (pessoa física)
JP
Technical data
IPC Classification
Priority claims
JP
9115254 · 04/16/1997
Abstract
"COMPOSIÇÃO SUBSTRATO PARA ABSORÇÃO PERCUTÂNEA, E, PREPARAÇÃO DE ABSORÇÃO PERCUTÂNEA". Esta invenção está relacionada a uma composição substrato de absorção percutânea contendo um copolímero em bloco de estireno-isopreno-estireno, um amaciante, uma resina promotora de pegajosidade e hexileno glicol e ainda a uma preparação de absorção percutânea contendo a mesma e um produto farmacêutico.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
11/11/2003
RPI 1714
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
05/23/2000
RPI 1533
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