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Official data from INPI

APARELHO E PROCESSO PARA INSTALAR UM FORRO REFRATÁRIO.

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI9806603

Type

Invention Patent

Filing

05/22/1998

Publication

03/08/2000

Progress at the INPI

  1. Filing05/22/98
  2. Publication03/08/00
  3. Examination
  4. Allowance12/30/03
  5. Abandoned
  6. In force

The application was allowed on 12/30/2003 but abandoned for failure to pay the grant fee (art. 38 of the Brazilian IP Act). The letters patent were never issued.

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Latest action published by the INPI: 06/15/2004. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Magneco/Metrel, INC.

US

Inventors

C. C. (pessoa física)

US

J. I. (pessoa física)

US

M. S. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

08/862.623 · 05/23/1997

Abstract

"APARELHO E PROCESSO PARA INSTALAR UM FORRO REFRATÁRIO". São apresentados um aparelho e um processo para instalar um forro refratário em um recipiente metalúrgico ou reator químico fluidificado que tem uma abertura principal que é muito menor que o diâmetro do recipiente. O processo é especialmente útil em um recipiente que tem um corte transversal circular ou doutro modo curvado. Uma forma ou molde é montada no interior do recipiente, deixando-se um espaço entre a forma e o invólucro externo do recipiente. A forma é sustentada em ambos os lados, de modo a se manter a distância entre a forma e o invólucro externo, e de modo a se impedir o colapso ou a implosão da forma. Em seguida, uma composição de peça fundida bombeável que tem um fluxo uniforme e fácil é injetada entre a forma e o invólucro, e levada a endurecer. O emprego da composição bombeável encurta de maneira significativa o tempo necessário para se formar o forro.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI

#11.4

06/15/2004

RPI 1745

Deferimento

#9.1

12/30/2003

RPI 1721

Publicação do pedido de patente

#3.1

03/08/2000

RPI 1522

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