Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 1923 de 13/11/2007.
11/16/2011
RPI 2132
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Official data from INPI
DISPOSITIVO E PROCESSO DE ANÁLISE DE GÁS PARA A MEDIÇÃO DE ALTAS CONCENTRAÇÕES DE OXIGÊNIO
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI9806510Type
Invention Patent
Filing
02/03/1998
Publication
09/18/2001
Progress at the INPI
- Filing02/03/98
- Publication09/18/01
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 11/16/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Litton Systems, Inc.
US
Inventors
T. C. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
08/796084 · 02/05/1997
Abstract
"DISPOSITIVO E PROCESSO DE ANÁLISE DE GÁS PARA A MEDIÇÃO DE ALTAS CONCENTRAÇÕES DE OXIGÊNIO". Dispositivo de análise de gás usando orifícios múltiplos de tamanhos preselecionados para atingir uma razão calculada de mistura de gás para diluir uma amostra de oxigênio a uma concentração menor que 95% antes da aplicação a um sensor de oxigênio de corrente limitadora. O dispositivo compreende um regulador para regular as pressões dos fluxos entrantes de ar e da amostra de oxigênio a ser medida, uma válvula que permite que a concentração da amostra de ar para amostra de oxigênio seja medida, e um sistema para calcular a proporção amostra de ar/amostra de oxigênio baseado na concentração conhecida da amostra de ar e, então, baseado na concentração conhecida de ar e na proporção calculada da mistura, calcular a concentração desconhecida da amostra desde a saída do sensor de oxigênio.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
referente a 9ª anuidade
11/13/2007
RPI 1923
11.14
Revista 1713 de 04/11/2003
04/27/2004
RPI 1738
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
11/04/2003
RPI 1713
Publicação do pedido de patente
#3.1
09/18/2001
RPI 1602
Pedido de patente depositado
#2.1
11/21/2000
RPI 1559
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