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Official data from INPI

Processo de purificação de nefelina sienito para fins cerâmicos.

Em AnáliseInvention Patent

Application data

Number

PI9803342

Type

Invention Patent

Filing

06/15/1998

Publication

01/24/2017

Progress at the INPI

  1. Filing06/15/98
  2. Publication01/24/17
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 01/24/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Pedreira Vigné Ltda

RJ, BR

Inventors

J. S. (pessoa física)

BR

P. B. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

PROCESSO DE PURIFICAÇÃO DE NEFELINA SIENITO PARA FINS CERÂMICOS. Processo para purificação de rocha alcalina do tipo nefelina sienito, através e de flotação e lixiviação dos sulfetos e óxidos de ferro de forma a propiciar uma pureza no produto mineral, dentro dos requisitos exigidos pela indústria cerâmica e de vidros, isto é, um baixo teor de ferro, menor que 0,5% em Fe²O³ e teor de alcális (K²0 + Na²0), maior que 12%. Esta invenção diz respeito a para purificação de nefelina sienito para fins cerâmicos, através da redução do teor de ferro, a níveis inferior a 0,5% em Fe² 0³, por flotação com ácido oléico e metil isobutil carbinol- MIBC, seguido de lixiviação com ácido sulfúrico, utilizando-se as operações unitárias de cominuição (britagem e moagem), flotação e lixiviação ácida.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Publicação do pedido arquivado definitivamente

#3.6

01/24/2017

RPI 2403

Arquivamento do pedido - Art. 216 §2° da LPI

#11.6

11/04/2003

RPI 1713

11.14

Referente a RPI 1703 de 26/08/2003

10/28/2003

RPI 1712

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

08/26/2003

RPI 1703

6.7

Apresente documento comprovando que o signatário da petição inicial tem poderes para representar o depositante.

05/21/2002

RPI 1637

Pedido de patente depositado

#2.1

11/21/2000

RPI 1559

Patent monitoring

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