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Official data from INPI

CONCENTRADOR DE OXIGÊNIO SECUNDÁRIO DE ALTA PUREZA DE ESTÁGIO ÚNICO, E PROCESSO PARA PRODUZIR UMA CONCENTRAÇÃO DE OXIGÊNIO DE ALTA PUREZA

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI9704030

Type

Invention Patent

Filing

07/18/1997

Publication

02/09/1999

Progress at the INPI

  1. Filing07/18/97
  2. Publication02/09/99
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 01/25/2005. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Litton Systems Inc

US

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Inventors

R. C. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

08/684950 · 07/19/1996

Abstract

Patente de Invenção "CONCENTRADOR DE OXIGÊNIO SECUNDÁRIO DE ALTA PUREZA DE ESTÁGIO ÚNICO, E, PROCESSO PARA PRODUZIR UMA CONCENTRAÇÃO DE OXIGÊNIO DE ALTA PUREZA" . São descritos um concentrador de oxigênio secundário de alta pureza de estágio único e processo de concentração de oxigênio. O concentrador tem pelo menos uma primeira e uma segunda válvula de entrada, um primeiro e um segundo leito de peneira molecular, e uma primeira e segunda válvula de saída. De acordo com uma primeira versão da presente invenção, o concentrador compreende, ainda mais, uma válvula de alívio. Durante um ciclo de carga do primeiro leito de peneira molecular a primeira válvula de entrada está aberta, a primeira válvula de saída está fechada, a segunda válvula de entrada está fechada, e a segunda válvula de saída está aberta tal que o oxigênio adsorvido do segundo leito de peneira molecular é desadsorvido ou retirado enquanto o primeiro leito de peneira molecular é carregado. Semelhantemente, durante um ciclo de carga do segundo leito de peneira molecular a primeira válvula de entrada está fechada, a primeira válvula de saída está aberta, a segunda válvula de entrada está aberta, e a segunda válvula de saída está fechada tal que o oxigênio adsorvido do primeiro leito de peneira molecular é desadsorvido ou retirado enquanto o segundo leito de peneira molecular é carregado. Após completar-se o ciclo de carga do primeiro leito de peneira molecular, a primeira válvula de saída abre e um surto de gás é exaurido pela válvula de alívio e após completar-se o ciclo de carga do segundo leito de peneira molecular a segunda válvula de saída abre e um surto de gás é exaurido pela válvula de alívio. De acordo com um segunda versão da presente invenção, o concentrador ainda mais compreende uma bomba a qual durante o ciclo de carga do primeiro leito de peneira molecular retira o oxigênio adsorvido do primeiro leito de peneira molecular e durante o ciclo de carga do segundo leito de peneira molecular retira o oxigênio adsorvido do segundo leito de peneira molecular.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

01/25/2005

RPI 1777

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

08/24/2004

RPI 1755

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

O requerente deverá apresentar, de acordo com o art. 34 "I" da LPI, as objeções, buscas de anterioridade e resultados de exame para concessão de pedido correspondente em outros países.

06/11/2002

RPI 1640

Publicação do pedido de patente

#3.1

02/09/1999

RPI 1466

Pedido de patente depositado

#2.1

11/18/1997

RPI 1407

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