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Official data from INPI

PLACAS LITOGRÁFICAS SEM ÁGUA.

ArquivadaInvention PatentPCT · GB1996001973

Application data

Number

PI9610313

Type

Invention Patent

Filing

08/13/1996

Publication

05/23/2000

PCT

GB1996001973

Progress at the INPI

  1. Filing08/13/96
  2. Publication05/23/00
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 08/13/1996 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/09/2001. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Horsell Graphic Industries Limited

GB

Inventors

C. S. (pessoa física)

GB

P. B. (pessoa física)

GB

Technical data

IPC Classification

Priority claims

GB

9516723.5 · 08/15/1995

Abstract

Patente de Invenção: "PLACAS LITOGRÁFICAS SEM ÁGUA" . É descrito um método de preparação de uma placa litográfica sem água, o qual compreende um suporte tendo uma superfície oleofílica estando revestida sobre a superfície oleofílica uma mistura que compreende, como um dos componentes, um material de liberação repelente à água e repelente à tinta ou uma mistura de tais materiais, e como o outro componente essencial uma composição fotossensível insolúvel em água, a qual é tornada aquosa através da exposição à luz, ou uma composição insolúvel em água, a qual é tornada aquosa através da exposição ao calor, a proporção do material de liberação para a composição insolúvel em água na mistura sendo de 20 a 80 do material de liberação a 80 - 20 da composição insolúvel em água em peso, o tratamento de formação de imagem da mistura sobre o suporte, a revelação da mistura com uma solução alcalina aquosa, para tornar as áreas tratadas da composição insolúvel em água solúveis em água e para remover essa composição junto com o material de liberação e, dessa forma, a exposição da superfície oleofílica ao suporte nas áreas da placa tratadas e a manutenção do material de liberação e da composição insolúvel em água nas áreas não-tratadas da placa, assim, resultando em uma placa litografíca sem água de operação negativa.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

10/09/2001

RPI 1605

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/23/2000

RPI 1533

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