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Official data from INPI

COMPOSIÇÃO ADEQUADA PARA USO COMO UMA COMPOSIÇÃO DE LIMPEZA, PROCESSO PARA LAVAGEM DE TECIDO E PROCESSO PARA DEPOSIÇÃO DE CORRE SEM ELETRÓLISE

ArquivadaInvention PatentPCT · US1996013939

Application data

Number

PI9610165

Type

Invention Patent

Filing

08/29/1996

Publication

08/04/1998

PCT

US1996013939

Progress at the INPI

  1. Filing08/29/96
  2. Publication08/04/98
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 08/29/1996 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/09/2001. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

The Dow Chemcial Company

US

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Inventors

A. S. (pessoa física)

US

D. W. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

60/300.041 · 08/30/1995

Abstract

"COMPOSIÇÃO ADEQUADA PARA USO COMO UMA COMPOSIÇÃO DE LIMPEZA, PROCESSO PARA LAVAGEM DE TECIDO E PROCESSO PARA DEPOSIÇÃO DE COBRE SEM ELETRÓLISE", compreendendo ácidos poliamino monosuccínicos que são quelantes eficazes para uso em condicionamento de gás (preferivelmente envolvendo o ácido poliamino monosuccínico na forma de um quelante metálico, preferivelmente um complexo de ferro). Sulfeto de hidrogênio pode ser removido de um fluido pelo contato de dito fluido com uma solução aquosa em um pH adequado para remover sulfeto de hidrogênio onde a citada solução contém pelo menos um quelante metálico polivalente de maior valência de pelo menos um ácido poliamino monosuccínico. O NO~ x~ pode ser removido de um fluido pelo contato do fluido com uma solução aquosa de um quelante metálico polivalente de pelo menos um estado menor de valência de pelo menos um ácido poliamino monosuccínico. Os quelantes de cobre também são úteis em deposições de cobre sem eletrólise. Em deposição sem eletrólise, a invenção inclui um método de deposição de cobre sem eletrólisse sobre uma superfície não metálica receptiva ao cobre depositado incluindo uma etapa de contatar superfície não metálica com uma solução aquosa compreendendo um sal de cobre solúvel e pelo menos um ácido poliamino monosuccínico e banhos de deposição apropriados para tal uso. Outro aspecto da invenção inclui o uso de ácidos poliamino monosuccínicos em composições de detergente de lavanderia contendo um tensoativo e construtor detergente.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

10/09/2001

RPI 1605

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

08/04/1998

RPI 1441

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