Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às anuidades 6ª, 7ª e 8ª.
03/19/2002
RPI 1628
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Official data from INPI
PROCESSO PARA A LIMPEZA DE UM SUBSTRATO POSSUINDO UM CONTAMINANTE
Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · US1993006508
Application data
Number
PI9306718Type
Invention Patent
Filing
07/09/1993
Publication
12/08/1998
PCT
US1993006508 Progress at the INPI
- Filing07/09/93
- Publication12/08/98
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/19/2002. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
The Clorox Company
US
Inventors
D. C. (pessoa física)
US
J. M. (pessoa física)
US
J. L. (pessoa física)
US
R. I. (pessoa física)
US
S. K. (pessoa física)
US
Technical data
Priority claims
US
07/912,933 · 07/13/1992
Abstract
Patente de Invenção"PROCESSO PARA A LIMPEZA DE UM SUBSTRATO POSSUINDO UM CONTAMINANTE".A invenção proporciona um processo de limpeza no qual um solvente tal como o dióxido de carbono densificado podeser usado para a limpeza rápida e eficiente, mas com dano diminuído dos componentes sólidos tais como botões. O processo compreende contactar um substrato a ser limpo com um primeiro fluido do contacto com o substrato enquanto que o substitui com um segundo fluido, e recuperar o substrato substancialmente livre do primeiro e segundo fluidos e do contaminante. O primeiro fluido é gás densificado enquanto que o segundo fluido é um gás comprimido. Uma modalidade preferida do processo inclui o uso de pré-tratamento designado para a compatibilidadecom o primeiro fluido densificado.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Deferimento
#9.1
07/10/2001
RPI 1592
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
12/19/2000
RPI 1563
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
12/08/1998
RPI 1457
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