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Official data from INPI

COMPOSIÇÃO E MÉTODO PARA REMOVER CONTAMINANTES DE UM SUBSTRATO SÓLIDO ESCOLHIDO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI9302421

Type

Invention Patent

Filing

06/21/1993

Publication

03/22/1994

Progress at the INPI

  1. Filing06/21/93
  2. Publication03/22/94
  3. Abandoned07/26/94
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 03/26/2002. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Hughes Aircraft Company

US

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Inventors

E. E. (pessoa física)

US

G. C. (pessoa física)

US

S. B. (pessoa física)

US

Technical data

IPC Classification

Priority claims

US

901,297 · 06/19/1992

Abstract

Uma composição para remover contaminantes de um substrato sólido escolhido enquanto evita impacto ambiental negativo compreende: (a) um oxidante selecionado do grupo de (1) agentes oxidantes que geram peroxido de hidrogênio na dissolução em água, o agente oxidante presente em uma quantidade suficiente para gerar cerca de 0,01 por cento em peso de peroxido de hidrogênio baseado na composição até o limite de solubilidade do agente oxidante na composição, e (2) sais de oxi-ácidos de halogênio, presente em uma quantidade cerca de 0,01 por cento em peso da composição até o limite de solubilidade do sal de oxi-ácido de halogênio na composição; (b) um composto alcalino em quantidade suficiente para prover um pH de 7,0 ou maior na composição; (c) cerca de 0,01 a 5,0 por cento em peso de um agente de umidecimento escolhido o qual é não-reativo com oxidante e composto alcalino; e (d) água desionizada como balanço da dita composição. Opcionalmente, a composição pode compreender ainda cerca de 0,01 a 10,0 por cento em peso de um agente de proteção de materiais escolhido. Em operação, o substrato sólido tendo contaminantes sobre o mesmo é exposto à composição demonstrada acima pelo que os contaminantes são removidos do substrato e são convertidos em produtos não-tóxicos e não-perigosos. Em uma modalidade alternativa, a remoção de contaminante é ainda aumentada por exposição da composição e dos contaminantes sobre o substrato à radiação ultravioleta.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª, 6ª, 7ª, 8ª anuidades.

03/26/2002

RPI 1629

Solicitação de exame técnico

#4.1

07/26/1994

RPI 1234

Publicação do pedido de patente

#3.1

03/22/1994

RPI 1216

2.3

09/21/1993

RPI 1190

Pedido de patente depositado

#2.1

07/20/1993

RPI 1181

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