Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
02/01/2000
RPI 1517
Application data
Number
PI9205457Type
Filing
Publication
PCT
US1992008150 The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Hughes Aircraft Company
US
Inventors
D. M. (pessoa física)
US
G. C. (pessoa física)
US
G. R. (pessoa física)
US
J. S. (pessoa física)
US
M. C. (pessoa física)
US
R. G. (pessoa física)
US
R. W. (pessoa física)
US
S. I. (pessoa física)
US
S. B. (pessoa física)
US
T. S. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
791,819 · 11/13/1991
Abstract
Método para remover contaminantes de um substrato sólido compreendendo, segundo uma configuração preferida; (a) prover um banho de reação inicial (10) que compreende: (1) um composto alcalino em quantidade suficiente para fornecer um pH de 10,5 até 14,0 num banho de reação final; (2) um agente de umidecimento escolhido que é estável na presença do composto alcalino e peróxido de hidrogênio; e (3) água desionizada. (b) dosar o peróxido de hidrogênio (a partir do reservatório 14) nos referidos banhos de reação inicial e final a uma taxa aproximadamente de 0,004 miligramas de peróxido de hidrogênio por um minuto por galão de fluxo de banho de reação ou superior; (c) aspergir (através de 20) os banhos de reação inicial e final com ar ou oxigênio em uma taxa de cerca de 0,001 até 1 pé cúbico padrão por minuto; e (d) expor o referido substrato tendo contaminantes ao banho de reação final contendo peróxido de hidrogênio dosado e aspergir ar ou oxigênio. O peróxido de hidrogênio no banho de reação final é mantido em nível efetivo por um extenso periódo de tempo para remover os ditos contaminantes do substrato de uma forma uniforme e controlada. Alternativamente, outros oxidantes além de peróxido de hidrogênio podem ser usados. É descrito também um sistema para realização deste método.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
02/01/2000
RPI 1517
#6.1
03/23/1999
RPI 1472
#4.1
12/06/1994
RPI 1253
#1.3
06/21/1994
RPI 1229
10/13/1993
RPI 1193
#2.1
08/24/1993
RPI 1186
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