Official data from INPI

PROCESSO E APARELHO PARA LIMPEZA DE PELO MENOS UM SUBSTRATO FOTORECEPTOR

ArquivadaInvention Patent

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Application data

Number

PI9300762

Type

Invention Patent

Filing

03/05/1993

Publication

11/23/1993

View on INPI

Progress at the INPI

Filing03/05/93
Publication11/23/93
Examination11/21/95
Allowance05/23/00
Abandoned
In force

The application was allowed on 05/23/2000 but abandoned for failure to pay the grant fee (art. 38 of the Brazilian IP Act). The letters patent were never issued.

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Latest action published by the INPI: 02/28/2001. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

X. C. (pessoa física)

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Inventors

E. S. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

G03G 21/00

Priority claims

07/858.807 · 03/27/1992

Abstract

Um processo e aparelho para limpeza de substratos fotoreceptores onde pelo menos um substrato é girado em um banho de partículas de gelo seco em circulação. As partículas de gelo seco contactam a superfície externa de substrato, se liquefazem localmente ao contato e recongelam-se para capturar contaminantes particulados sobre a superfície externa das partículas de gelo seco. Um fluxo de gás inerte em contracorrente ao fluxo de partículas de gelo seco em circulação é abastecido para aumentar a eficiência da limpeza e auxiliar a remover dióxido de carbono, contaminantes e pequenas partículas de gelo seco.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI

#11.4

02/28/2001

RPI 1573

Deferimento

#9.1

05/23/2000

RPI 1533

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

11/23/1999

RPI 1507

Solicitação de exame técnico

#4.1

11/21/1995

RPI 1303

Publicação do pedido de patente

#3.1

11/23/1993

RPI 1199

Pedido de patente depositado

#2.1

04/20/1993

RPI 1168

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