Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
06/26/2001
RPI 1590
Application data
Number
PI9300533Type
Filing
Publication
The application was abandoned: the INPI technical office action was not answered in time (art. 36 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 06/26/2001. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Praxair Technology, Inc.
US
Inventors
R. P. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
834.787 · 02/13/1992
Abstract
A presente invenção faz uso de um primeiro estágio ou estágio de desbastação para remover o grosso da umidade, e um segundo estágio ou estágio de polimento para completar a secagem. O primeiro estágio pode utilizar uma área de membrana relativamente pequena e um gás de purga de qualidade relativamente baixa, enquanto que o segundo estágio pode utilizar uma grande área de membrana e um gás de purga de alta qualidade, tal como alguma retropurga de produto. O arranjo provê a utilização eficaz de gás de purga de alta qualidade disponível, tal como o produto, enquanto que minimiza a contaminação do produto. Esse arranjo de purga de dois estágios é especialmente atraente para os processos ou sistemas nos quais dispõem-se de gases de purga de múltiplos tipos.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.2
06/26/2001
RPI 1590
#6.1
01/11/2000
RPI 1514
#4.1
01/10/1995
RPI 1258
#3.1
08/17/1993
RPI 1185
#2.1
03/30/1993
RPI 1165
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