(11) 98705-3426
TrademarkIQ iconTrademarkIQ
Back to search
Official data from INPI

COMPOSTO, COMPOSIÇÃO DE LAVAGEM, SISTEMA DE LAVAGEM AQUOSO, MÉTODO DE LAVAR ARTIGOS, PROCESSO PARA REMOVER H2S OU NOX DE UM FLUIDO, MÉTODO PARA QUELAR UM ION METÁLICO

ArquivadaInvention Patent

Application data

Number

PI9202645

Type

Invention Patent

Filing

07/08/1992

Publication

03/16/1993

Progress at the INPI

  1. Filing07/08/92
  2. Publication03/16/93
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 07/08/1992 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

Talk to a specialist

Latest action published by the INPI: 10/10/1995. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

The Dow Chemical Company

US

See this company's full portfolio

Inventors

D. C. (pessoa física)

US

H. H. (pessoa física)

US

J. S. (pessoa física)

US

J. G. (pessoa física)

US

Technical data

Priority claims

US

729,514 · 07/12/1991

Abstract

"COMPOSTO, COMPOSIÇÃO DE LAVAGEM, SISTEMA DE LAVAGEM AQUOSO, MÉTODO DE LAVAR ARTIGOS, PROCESSO PARA REMOVER H~ 2~ S OU NO~ x~ DE UM FLUIDO, MÉTODO PARA QUELAR UM ION METÁLICO", onde novos compostos são representados pelas Fórmulas 1 e 2 em que a Fórmula 1 é (Vide fórmula) em que cada um de R^ 1^ , R^ 2^ , R^ 3^ e R^ 4^ é independentemente H, hidroxialquil, -C(R^ 6^ )~ 2~ COOH ou amônio, amina ou sais de metais alcalinos dos mesmos; R^ 5^ é um grupo alquileno tendo pelo menos um grupo carbonila; e cada R^ 6^ é independentemente selecionado de H, e grupos alquil de 1 a 4 átomos de carbono, cadeia reta ou ramificada, preferivelmente H, -CH~ 3~ , ou -C~ 2~ H~ 5~ , mais preferivelmente cada R^ 6^ é H e a Fórmula 2 é: (vide fórmula) em que R^ 1^ , R^ 2^ , R^ 3^ , R^ 4^ , R^ 5^ , e R^ 6^ estão definidos para a Fórmula 1, preferivelmente pelo menos 3, mais preferivelmente 4 de R^ 1^ , R^ 2^ , R^ 3^ e R^ 4^ são independentemente -C(R^ 6^ )~ 2~ COOH ou sais do mesmo; e cada R^ 7^ é independente R^ 5^ ou um grupo alquileno. Os compostos são vantajosamente foto- e bio-degradáveis e são particularmente úteis como quelantes em composições de lavagem e em condicionamento de gás.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

10/10/1995

RPI 1297

Publicação do pedido de patente

#3.1

03/16/1993

RPI 1163

Pedido de patente depositado

#2.1

08/18/1992

RPI 1133

Patent monitoring

Track this patent in real time.

Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.