Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 3ª e 4ª anuidade.
05/16/2000
RPI 1532
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Official data from INPI
VENTANEIRA COM LANÇA PARA INJEÇÃO DE GASES REDUTORES EM ALTOS FORNOS
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI9104847Type
Invention Patent
Filing
11/07/1991
Publication
05/11/1993
Progress at the INPI
- Filing11/07/91
- Publication05/11/93
- Abandoned07/18/95
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 05/16/2000. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Companhia Brasileira de Projetos Industriais-COBRAPI
RJ, BR
Inventors
R. S. (pessoa física)
BR
R. V. (pessoa física)
BR
Technical data
IPC Classification
Abstract
Trata-se de um sistema de injeção de gases redutores em altos fornos proporcionando considerável redução no consumo de redutores sólidos (coque e carvão vegetal). O gás redutor é transportado em tubulação de aço carbono. O sistema é composto de válvula controladora de pressão (1), válvula de segurança (2), placa de orifício (3), anel de distribuição (4). Cada conjunto máximo de 10 ventaneiras possui um manifold (5) de onde saem linhas individuais de alimentação para as ventaneiras. Cada linha individual contempla placa de orifício (6), válvula controladora de vazão (7), mangueira flexível (8), válvula de retenção (9) e lança de injeção.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
8.1
Referente a 3ª, 4ª e 7ª anuidade.
12/29/1998
RPI 1460
Solicitação de exame técnico
#4.1
07/18/1995
RPI 1285
Publicação do pedido de patente
#3.1
05/11/1993
RPI 1171
Pedido de patente depositado
#2.1
12/10/1991
RPI 1097
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