Official data from INPI

VÁLVULA DE DISCO EXCÊNTRICO ANTICAVITANTE E BAIXO RUÍDO

ArquivadaInvention Patent

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Application data

Number

PI9103850

Type

Invention Patent

Filing

09/03/1991

Publication

04/06/1993

View on INPI

Progress at the INPI

Filing09/03/91
Publication04/06/93
Abandoned
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 09/03/1991 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 08/29/1995. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Hiter Industria e Comércio de Controles Termo-Hidráulicos Ltda.

SP, BR

M. P. (pessoa física)

SP, BR

Inventors

M. P. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

F16K 1/22

Abstract

"VÁLVULA DE DISCO EXCÊNTRICO ANTICAVITANTE E BAIXO RUÍDO", constituído por disco-válvula (1) dotado de dois segmentos laminares esféricos (2), dotados de pluralidade de orifícios (3), articulado diametralmente em corpo anelar em eixos, cujo desenvolvimento permite sua instalação em tubulações, no lugar das válvulas de disco usuais, usadas para controle de pressão e vazão, com a vantagem de reduzir o ruído aerodinâmico, os danos causados pela cavitação, reduzir o torque de acionamento e aumentar o range de utilização da válvula.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

08/29/1995

RPI 1291

14.1

04/27/1993

RPI 1169

Publicação do pedido de patente

#3.1

04/06/1993

RPI 1166

Pedido de patente depositado

#2.1

10/15/1991

RPI 1089

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