Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 07/05/2010, observadas as condições legais
07/23/2019
RPI 2533
Application data
Number
PI1012135Type
Filing
Publication
PCT
JP2010057808 Patent grant document available
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Access the documentThe patent was granted on 07/23/2019 and is in force until 05/07/2030. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:05/07/2030
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Applicants
Nippon Shokubai Co., Ltd
JP
Inventors
T. S. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2009-119162 · 05/15/2009
JP
2009-119163 · 05/15/2009
Abstract
PROCESSO PARA PRODUZIR ÃCIDO (MET)ACRÃLICO E SISTEMA DE CRISTALIZAÃÃOUm processo para produzir ácido (rnet)acrÃlico compreendendo as etapas de: fornecer um meio de resfriamento a um cristalizador ( 1) de um dispositivo de fonte de calor (4A) 1 deste modo cristalizando ácido (met)acrÃlico de urna solução de ácido (met)acrÃlico bruta; descarregar o meio de resfriamento do cristalizador (1) e retornar o meio de resfriamento para o dispositivo de fonte de calor (4A) fornecer um meio de um meio de aquecimento ao cristalizador (1) de um dispositivo de fonte de calor (4B) 1 deste modo fundindo o ácido (met)acrÃlicoi e descarregar o meio de aquecimento do cristalizador (1) e retornar o meio de aquecimento para o dispositivo de fonte de calor (4B); em que a temperatura do meio de resfriamento que retorna para o dispositivo de fonte de calor (4A) é mantida constante utilizando um primeiro tanque de reserva (5) 1 e a temperatura do meio de aquecimento que retorna para o dispositivo de fonte de calor (4B) é mantida constante utilizando um segundo tanque de reserva (6).
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 07/05/2010, observadas as condições legais
07/23/2019
RPI 2533
Anulada a publicação código 11.4 na RPI nº 2468 de 24/04/2018 por ter sido indevida.
07/16/2019
RPI 2532
#11.4
04/24/2018
RPI 2468
#9.1
01/09/2018
RPI 2453
#1.3
03/29/2016
RPI 2360
#1.1
11/27/2012
RPI 2186
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