Official data from INPI

MÉTODO

ArquivadaInvention PatentPCT · US2010029900

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Application data

Number

PI1011414

Type

Invention Patent

Filing

04/05/2010

Publication

03/15/2016

PCT

US2010029900

View on INPI

Progress at the INPI

Filing04/05/10
Publication03/15/16
Abandoned
Allowance
Grant
In force

The application was abandoned at the INPI. The case ended without a patent and the technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 09/24/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

HEXION INC.

MOMENTIVE SPECIALTY CHEMICALS INC.

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Inventors

A. M. (pessoa física)

J. G. (pessoa física)

L. X. (pessoa física)

Technical data

IPC Classification

B32B 5/16

Priority claims

12/437717 · 05/08/2009

Abstract

MÃTODO SÃ£o apresentados aqui mÃ©todos para a produÃ§Ã£o de partÃculas revestidas de escoamento livre e a baixa temperatura incluindo uma etapa de cura o revestimento com luz UV ou feixe de elÃ©trons. Cada partÃcula tem um revestimento prÃ©-curado colocado sobre um substrato. SÃ£o tambÃ©m apresentados mÃ©todos para usar as partÃculas.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Manutenção do arquivamento

#11.20

09/24/2020

RPI 2594

Arquivamento - Art. 34 da LPI

#11.5

09/10/2019

RPI 2540

6.20

06/25/2019

RPI 2529

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

04/17/2018

RPI 2467

Alteração de nome deferida

#25.4

12/06/2016

RPI 2396

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Foi retificada a publicação 1.3 da RPI 2358 de 15/03/2016 em relação ao item 1.1 da mesma.

11/08/2016

RPI 2392

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

03/15/2016

RPI 2358

Alteração de dados cadastrais

#1.1

11/27/2012

RPI 2186

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