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Official data from INPI

PLATAFORMA GIRATÓRIA E LINHA DE MOLDAGEM VEDADA A VÁCUO SEMI-AUTOMATIZADA

ConcedidaInvention Patent

Application data

Number

PI1010439

Type

Invention Patent

Filing

12/30/2010

Publication

12/24/2013

Progress at the INPI

  1. Filing12/30/10
  2. Publication12/24/13
  3. Examination
  4. Allowance12/15/20
  5. Grant02/02/21
  6. In force12/30/30

The patent was granted on 02/02/2021 and is in force until 12/30/2030. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:12/30/2030

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Latest action published by the INPI: 02/02/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

SINTOKOGIO, LTD.

JP

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Inventors

T. I. (pessoa física)

JP

Y. E. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

2010-072124 · 03/26/2010

Abstract

LINHA DE MOLDAGEM SELADA À VÁCUO SEMI-AUTOMATIZADA E PLATAFORMA GIRATÓRIA É revelada uma plataforma giratória usada para um processo de moldagem vedado a vácuo. A plataforma giratória (1, 41) inclui um eixo de suporte giratório (2) montado em uma direção vertical, uma plataforma (4, 42) montada de forma giratória no eixo de suporte giratório por intermédio de um mancal de tal modo que a plataforma pode ser girada em torno do eixo de suporte giratório em um ângulo predeterminado. A plataforma é provida com uma pluralidade de elementos de montagem (9) para posicionar e montar várias caixas de sucção (8) para o processo de moldagem vedado a vácuo. A plataforma giratória inclui um mecanismo de acionamento giratório (5, 20) para acionar a plataforma na direção circunferente à plataforma. A plataforma (4, 42) é configurada com um mecanismo de acionamento giratório (5, 20) para parar a plataforma em posições de paradas predeterminadas. A plataforma adicionalmente tem várias aberturas (10) correspondendo às posições de parada. Quando a plataforma é parada nas posições de parada, as posições das aberturas (10) correspondem a uma primeira estação (S1) para realizar ao menos uma etapa selecionada do grupo consistindo na etapa para formar uma película, a etapa para aplicar uma lavagem de molde, uma etapa para secar a lavagem de molde, a etapa para colocar uma caixa de fundição, a etapa para preencher com areia, a etapa para extrair o molde concluído a partir do padrão, e uma segunda etapa (S2) para realizar ao menos outra etapa selecionada do grupo. Um elemento de montagem (9) é montado em cada abertura.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

10 (dez) anos contados a partir de 02/02/2021, observadas as condições legais

02/02/2021

RPI 2613

100

Recorrente: O depositante. @ Despacho: Recurso conhecido e provido. Reformada a decisão recorrida e deferido o pedido. Desta data corre o prazo de 60 (sessenta) dias para o pagamento da retribuição para expedição da Carta-Patente. [100]

12/15/2020

RPI 2606

Petição de recurso

#12.2

04/03/2018

RPI 2465

Indeferimento

#9.2

01/23/2018

RPI 2455

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

08/08/2017

RPI 2431

Publicação do pedido de patente

#3.1

12/24/2013

RPI 2242

Pedido de patente depositado

#2.1

07/16/2013

RPI 2219

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

07/17/2012

RPI 2167

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 20100122152 em 30/12/2010 03:57(RJ).

05/08/2012

RPI 2157

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