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Official data from INPI

RADIADOR DE DOIS ESTÁGIOS COM EMITÂNCIA VARIÁVEL PARA USO EM VÁCUO

ConcedidaInvention Patent

Application data

Number

PI1003427

Type

Invention Patent

Filing

08/26/2010

Publication

01/13/2015

Progress at the INPI

  1. Filing08/26/10
  2. Publication01/13/15
  3. Examination
  4. Allowance09/08/20
  5. Grant10/06/20
  6. In force08/26/30

The patent was granted on 10/06/2020 and is in force until 08/26/2030. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.

Protection valid until:08/26/2030

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Latest action published by the INPI: 10/06/2020. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

INSTITUTO NACIONAL DE PESQUISAS ESPACIAIS - INPE

SP, BR

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Inventors

F. S. (pessoa física)

BR

V. V. (pessoa física)

BR

Technical data

Abstract

RADIADOR DE DOIS ESTÁGIOS COM EMITÂNCIA VARIÁVEL PARA USO EM VÁCUO. A presente invenção refere-se a um radiador para dissipação de calor por troca radiativa composto por dois estágios, interno e externo. Os estágios são conectados fisicamente através de arruelas isolantes para eliminar ou minimizar a troca de calor por condução entre si. As superficies internas dos dois estágios são aletadas e cobertas com um revestimento que tem o valor da sua emissividade térmica dependente da temperatura. A superficie externa do estágio externo é coberta com material com baixa absortividade no espectro solar. A emissividade da superficie externa no espectro mfravermelho pode ser tanto constante e alta quanto variável em função da temperatura. A função do estágio interno é receber calor de uma fonte dissipadora, enquanto a do externo é de rejeitar este calor para o ambiente. A troca de calor entre os dois estágios se dá primordialinente por radiação entre suas superficies internas. Como a emissividade do revestimento das mesmas é diretamente proporcional à temperatura das supefficies, o presente invento funciona como uma espécie de válvula térmica entre a fonte dissipadora e o ambiente, permitindo um controle automático e passivo da temperatura da fonte.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Concessão da patente

#16.1

10 (dez) anos contados a partir de 06/10/2020, observadas as condições legais

10/06/2020

RPI 2596

Deferimento

#9.1

09/08/2020

RPI 2592

Exigência preliminar (variante)

#6.22

06/09/2020

RPI 2579

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

01/08/2019

RPI 2505

8.7

01/12/2016

RPI 2349

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente 5a. anuidade(s).

09/15/2015

RPI 2332

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/13/2015

RPI 2297

Pedido de patente depositado

#2.1

11/25/2014

RPI 2290

Publicação anulada

#2.6

ANULADA A PUBLICAÇÃO POR TER SIDO INDEVIDA2.5 na RPI 2286 DE 29/10/2014

11/18/2014

RPI 2289

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

10/29/2014

RPI 2286

Publicação anulada

#2.6

ANULADA A PUBLICAÇÃO POR TER SIDO INDEVIDA2.1 na RPI 2107 de 24/05/2011

10/21/2014

RPI 2285

Pedido de patente depositado

#2.1

05/24/2011

RPI 2107

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