Adição na publicação
#15.35
10/05/2021
RPI 2648
Application data
Number
PI0923712Type
Filing
Publication
PCT
JP2009071532 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
ACP JAPAN CO., LTD
JP
S. N. (pessoa física)
JP
Inventors
S. N. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2008-009179 · 12/26/2008
JP
2008-009180 · 12/26/2008
JP
2009-001396 · 03/10/2009
JP
2009-001397 · 03/10/2009
Abstract
COBERTURA PARA UM BANHO DE NÉVOA DE GÁS SOB PRESSÃOÉ provida uma cobertura de banho de névoa de gás que permite absorção efetiva através da pela e membra mucosa de um organismo, que também permite descarga de ar ou de um gás e uma névoa de gás dentro da cobertura de banho de névoa de gás sob pressão,, e que permite que a pressão dentro da cobertura seja ajustada facilmente. A cobertura de banho de névoa de gás (100) encapsula uma névoa de gás, que é criada pela pulverização e dissolução de um gás dióxido de carbono, oxigênio, ou um gás misturado compreendendo gás dióxido de carbono e oxigênio a uma concentração acima de um valor específico, em um líquido, e que coloca o mesmo em contato com a pele e membranas mucosas de um organismo. Acobertura é equipada com um elemento de cobertura do organismo na forma de saco (101 que cobre a pele e membranas mucosas de um organismo. supramencionado, um dispositivo de restrição (102) que provido em uma parte aberta do elemento de cobertura do organismo supramencionado (101) e que restringe a parte da abertura a fim de impedir dissipação de névoa de gás supramencionada, um orifício de suprimento de névoa de gás (103) que éconectado no interior da cobertura de banho de névoa de gás sob pressão supramencionada (100) a fim de introduzir a névoa de gás supramencionada na dita cobertura de banho de névoa de gás sob pressão (100), e um orifício de descarga (104) que descarrega o ar e a névoa de gás ou gás supramencionado encapsulado na cobertura de banho de névoa de gás sob pressão supramencionada (100) e ajusta a sua quantidade.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#15.35
10/05/2021
RPI 2648
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2539 de 03-09-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
12/24/2019
RPI 2555
#8.6
Referente às 6ª, 7ª, 8ª e 9ª anuidades.
09/03/2019
RPI 2539
#1.3
08/27/2019
RPI 2538
#1.1
11/21/2012
RPI 2185
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