Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
05/30/2017
RPI 2421
Application data
Number
112013018883Type
Filing
Publication
PCT
JP2012053759 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 02/17/2012 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
ACP JAPAN CO., LTD
JP
S. N. (pessoa física)
JP
Inventors
S. N. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2011-031831 · 02/17/2011
Abstract
SISTEMA DE BANHO COM NEBLINA DE GÃS PRESSURIZADA" A invenção é para fornecer um sistema de banho com neblina de gás pressurizada que assegure higiene e redução em custos, fazendo descartável apenas uma parte do sistema. Este sistema faz com que uma neblina contate a pele e/ou a membrana mucosa de um corpo vivo em uma alta pressão, não menor do que um valor predeterminado; a neblina é preparada pulverizando lÃquido e a neblina de gases que dissolvem oxigênio e/ou dióxido de carbono em dimensão micra, e compreende um meio de suprimento de gás (10); um meio de geração de neblina de gás (30) que tem um bocal de fluido (32) para gerar a neblina de gás e uma armazenagem de liquido (34) para armazenar lÃquido; uma cobertura de pressão (50) para cobrir a pele e a membrana mucosa do corpo vivo, w formada com um espaço para vedar neblina de gás no interior, suprida a partir do meio de geração de neblina de gás (30); e um meio de circulação de humores (41) para circular o lÃquido a partir da armazenagem de lÃquido (34) do meio de geração de neblina de gás (30) para o bocal de fluido (32), e no qual no meio de geração de neblina de gás (30) no mÃnimo a armazenagem de lÃquido (34) é deslocável e substituÃda por outra armazenagem de lÃquido.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
05/30/2017
RPI 2421
#11.1
03/14/2017
RPI 2410
#1.3
01/31/2017
RPI 2404
#1.1
01/17/2017
RPI 2402
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