UNIDADE DE REVESTIMENTO A VÁCUO DE PVD

IPC Classification

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Abstract

UNIDADE DE REVESTIMENTO A VÃCUO E PROCESSO PARA O REVESTIMENTO SIMULTÃNEO DE VÃRIOS SUBSTRATOS PLANOS COM UMA CAMADA DE METAL DURO. A presente invenção refere-se a uma unidade de revestimento a vácuo a qual contém uma entrada de gás reativo (12), pelo menos uma fonte de revestimento de PVD (8, 21), com um cátodo (11) plano e um suporte de substrato (6) contendo vários substratos (7), sendo que o suporte de substrato (6) forma uma extensão horizontal bidimensional e o mesmo está posicionado entre pelo menos duas fontes de revestimento de PVD e que os vários substratos (7) são ferramentas de corte, com pelo menos uma aresta cortante (E), na região de borda periférica do substrato (7) plano, que estão colocadas de modo distribuído em um plano da extensão bidimensional do suporte de substrato (6), sendo que o suporte de substrato (6) está disposto posicionado de modo espaçado em um plano horizontal (3) na câmara de processo de vácuo (1), entre os cátodos (11) planos das pelo menos duas fontes de revestimento de PVD (8, 21), de tal modo que pelo menos uma parte de cada pelo menos uma aresta cortante (E) contém uma aresta cortante ativa (E) e a mesma está alinhada, de modo exposto todo o tempo em uma linha de visão direta, a pelo menos um dos cátodos (11) das fontes de revestimento de PVD (8, 21).