Alteração de sede deferida
#25.7
11/03/2021
RPI 2652
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Official data from INPI
PROCESSO PARA REVESTIMENTO DE SUBSTRATOS COM SUPERFÍCIES DE SUBSTRATO A SEREM REVESTIDAS POR MEIO DE PULVERIZAÇÃO DE MATERIAL ALVO
Em AnáliseInvention PatentPCT · EP2013001853
Application data
Number
112015000253Type
Invention Patent
Filing
06/24/2013
Publication
06/27/2017
PCT
EP2013001853 Progress at the INPI
- Filing06/24/13
- Publication06/27/17
- Examination
- Allowance04/27/21
- Grant07/06/21
- In force06/24/33
The patent was granted on 07/06/2021 and is in force until 06/24/2033. Until then, no one may make, use or sell the invention in Brazil without the owner's authorisation.
Protection valid until:06/24/2033
Latest action published by the INPI: 11/03/2021. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, PFÄFFIKON
CH
OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG, TRÜBBACH
CH
OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
CH
Inventors
D. K. (pessoa física)
CH
S. K. (pessoa física)
AT
Technical data
IPC Classification
Priority claims
DE
10 2012 013 577.7 · 07/10/2012
Abstract
RESUMOPatente de Invenção: "PROCESSO DE REVESTIMENTO POR IMPULSO DE ALTA POTÊNCIA". A invenção refere-se a um processo para revestimento de substratos por meio de pulverização de materiais alvo sendo que as seguintes etapas estão abrangidas: - em uma câmara de revestimento, submeter um primeiro alvo de pulverização (Sputtertargets) de um primeiro material com um pulso de potência por meio do qual, durante um primeiro intervalo de tempo, uma primeira quantidade de energia é transferida para o alvo de pulverização (Sputtertarget), sendo que aqui a densidade máxima de potência excede 50 W/cm2 e de preferência excede 500 W/cm2 - na câmara de revestimento, submeter um segundo alvo de pulverização (Sputtertargets) de um segundo material, diferente do primeiro material, com um pulso de potência por meio do qual, durante um segundo intervalo de tempo, uma segunda quantidade de energia é transferida para o alvo de pulverização (Sputtertarget), sendo que aqui a densidade máxima de potência excede 50 W/cm2 e de preferência excede 500 W/cm2, caracterizado pelo fato de que a primeira quantidade de energia difere da segunda quantidade de energia.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Alteração de nome deferida
#25.4
10/19/2021
RPI 2650
Alteração de nome deferida
#25.4
10/05/2021
RPI 2648
Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 24/06/2013, observadas as condições legais
07/06/2021
RPI 2635
Deferimento
#9.1
04/27/2021
RPI 2625
Exigência preliminar
#6.21
08/04/2020
RPI 2587
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
12/04/2018
RPI 2500
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
06/27/2017
RPI 2425
Alteração de dados cadastrais
#1.1
03/31/2015
RPI 2308
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