111
Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]
03/14/2023
RPI 2723
Application data
Number
PI0819076Type
Filing
Publication
PCT
CA2008001998 The application was refused on 03/14/2023 and the appeal did not change the decision. The invention was never patented and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/14/2023. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
DAGUA INC.
CA
Inventors
M. L. (pessoa física)
CA
IPC Classification
Priority claims
CA
2,607,713 · 11/14/2007
Abstract
APARELHO PARA TRATAMENTO DE ÃGUA POLUÃDA BASEADO EM OZÃNIO. O aparelho geralmente é composto por três etapas. A primeira etapa é uma fase de tratamento com ozônio onde a água poluÃda é tratada com gás ozônio. A segunda etapa é uma etapa de desgaseificação, na qual o excesso de gases não dissolvidos é retirado da água de forma que água que sai da etapa de desgaseificação esteja essencialmente saturada com gases. A última etapa do aparelho é uma etapa de filtração por membrana na qual a água saturada de gás passa por microfiltração ou ultrafiltração. Microbolhas formadas durante esta etapa final geralmente evitam o acúmulo de partÃculas e poluentes na superfÃcie das membranas e/ou dentro das aberturas ou poros, agindo assim como um mecanismo de autolimpeza do filtro da membrana.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]
03/14/2023
RPI 2723
Recorrente: O depositante.@ Despacho: Tome conhecimento do parecer técnico e se manifeste no prazo de 60 (sessenta) dias. [120]
12/27/2022
RPI 2712
#12.2
05/14/2019
RPI 2523
#9.2
02/05/2019
RPI 2509
#7.1
08/21/2018
RPI 2485
#6.6.1
04/17/2018
RPI 2467
#1.3
10/27/2015
RPI 2338
#1.5
Apresente nova folha do Resumo com Título conforme determina o art. 22 da Instrução Normativa PR 31/2013.
06/30/2015
RPI 2321
#1.1
08/23/2011
RPI 2120
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