Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI
#11.4
02/05/2019
RPI 2509
Application data
Number
PI0818099Type
Filing
Publication
PCT
IB2008054806 The application was allowed on 10/23/2018 but abandoned for failure to pay the grant fee (art. 38 of the Brazilian IP Act). The letters patent were never issued.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 02/05/2019. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
MAELGWYN MINERAL SERVICES AFRICA (PTY) LIMITED
ZA
Inventors
A. S. (pessoa física)
ZA
IPC Classification
Priority claims
ZA
2007/09865 · 11/15/2007
Abstract
MÃTODO PARA REMOVER CIANETO DE UM FLUXO AQUOSO, PROCESSO PARA TRATAR UM FLUXO CONTENDO CIANETO, PROCESSO PARA TRATAR UM FLU-XO AQUOSO CONTENDO METAIS VALIOSOS E PROCESSO INTEGRADO PARA LIXIVIAÃÃO DE UM FLUXO AQUOSO CONTENDO METAIS VALIOSOS.Esta invenção refere-se a um método de remoção de cianeto na forma de cianeto livre (isto é, Ãons cianeto CN ) e cianetos dissociáveis em ácido fraco (WAD), de um fluxo aquoso. WAD é cianeto combinado, com metais como o Cu. O método encontra apli-cação particular na remoção de cianeto de um fluxo residual de um carbono em Iixivi-ação (CIL) em operações de mineração. O método da invenção é realizado através do contato com um fluxo aquoso contendo cianeto com carbono, sob condições em que o Eh (potencial de redução de oxigênio (ORP), medido em mV) do fluxo aquoso é O ou superior. Vantajosamente o pH da solução é tamponado a partir de 7-9.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.4
02/05/2019
RPI 2509
#9.1
10/23/2018
RPI 2494
O depositante deve responder a exigência formulada neste parecer em até 60 (sessenta) dias, a partir da data de publicação na RPI, sob pena do arquivamento do pedido, de acordo com o artigo 34, inciso II, da LPI, por meio do serviço de código 206. Publique-se a Exigência.
07/10/2018
RPI 2479
#6.6.1
04/17/2018
RPI 2467
#1.3
05/03/2016
RPI 2365
#1.5
Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que a procuração apresentada não possui data.
07/14/2015
RPI 2323
#1.1
08/23/2011
RPI 2120
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