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Official data from INPI

EQUIPAMENTO PARA CORTE PROFUNDO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2008055505

Application data

Number

PI0805825

Type

Invention Patent

Filing

03/25/2008

Publication

08/30/2011

PCT

JP2008055505

Progress at the INPI

  1. Filing03/25/08
  2. Publication08/30/11
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 11/13/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

U. I. (pessoa física)

JP

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Inventors

M. S. (pessoa física)

JP

T. N. (pessoa física)

JP

Technical data

IPC Classification

Priority claims

JP

2007-096629 · 04/02/2007

Abstract

EQUIPAMENTO PARA CORTE PROFUNDO. É provido um equipamento para corte profundo dotado de um coxim-guia com ponta substituível em uma porção de cabeça de corte. Com o equipamento para corte profundo, é possível melhorar a qualidade de acabamento dos furos de corte a serem feitos e a vida útil do coxim-guia é ampliada. Um coxim-guia (3A) de contato deslizante com a circunferência interna de um furo de corte (H) é unido de forma destacável com um parafuso de montagem (17b) a uma seção com ranhuradas para montagem de coxins (18) que é formada na circunferência externa de uma porção de cabeça de corte (11). A parte superior (P1) do coxim-guia (3A) se projeta para fora em uma direção radial a partir de uma circunferência de corte (S) de uma lâmina de corte (lâmina de corte do lado da circunferência externa (2A)).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente à 4ª anuidade.

11/13/2012

RPI 2184

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 4ª anuidade.

06/12/2012

RPI 2162

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

08/30/2011

RPI 2121

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