Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2307 de 24/03/2015.
07/28/2015
RPI 2325
Application data
Number
PI0708367Type
Filing
Publication
PCT
IB2007000533 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
T. K. (pessoa física)
JP
Inventors
A. Y. (pessoa física)
JP
H. H. (pessoa física)
JP
K. M. (pessoa física)
JP
M. O. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Priority claims
JP
2006-055607 · 03/01/2006
Abstract
COMPOSTO CONTENDO COMPLEXO DE METAL MÚLTIPLO E COMPLEXO DE METAL, E PROCESSOS DE FABRICAÇÃO PARA OS MESMOS, E PROCESSO DE FABRICAÇÃO DE CATALISA- DOR DE PURIFICAÇÃO DE GÁS DE EXAUSTÃO USANDO O MESMO. A presente invenção refere-se a composto contendo complexo de metal múltiplo de acordo com uma modalidade tem uma pluralidade de complexos de metal em cada um dos quais um ligante é coordenado a um átomo de metal ou uma pluralidade de átomos de metal do mesmo tipo. A pluralidade de complexos de metal são ligados uns aos outros via um ligante polidentado que substitui parcialmente os ligantes dos dois ou complexos de metais, e têm 2 a 1000 átomos de metal.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2307 de 24/03/2015.
07/28/2015
RPI 2325
#8.6
Referente à 8ª anuidade.
03/24/2015
RPI 2307
#1.3
03/13/2012
RPI 2149
#1.1
08/16/2011
RPI 2119
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