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COMPOSTO OU UM SAL FARMACEUTICAMENTE ACEITÁVEL DO MESMO, COMPOSIÇÃO FARMACÊUTICA, E, USO DE UM COMPOSTO

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · EP2006068109
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Application data

Number

PI0618326

Type

Invention Patent

Filing

11/06/2006

Publication

08/23/2011

PCT

EP2006068109
View on INPI

Progress at the INPI

  1. Filing11/06/06
  2. Publication08/23/11
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/30/2013. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

N. O. (pessoa física)

NL

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Inventors

C. G. (pessoa física)

GB

R. P. (pessoa física)

GB

Technical data

IPC Classification

C07D 417/12

Priority claims

EP

05110450.3 · 11/08/2005

Abstract

COMPOSTO OU UM SAL FARMACEUTICAMENTE ACEITÁVEL DO MESMO, COMPOSIÇÃO FARMACÊUTICA, E, USO DE UM COMPOSTO A invenção refere-se a derivados de 2-(benzimidazol- 1 -il)-N- (4~feni1tiazo1-2-il)aceta1TLida tendo a fórmula geral (I) em que R~ 1~ é H, (C~ 1-4~)alquila, (C~ 1-4~)alquilóxi ou halogênio; R~ 2~ representa 1-3 substituintes selecionados dentre H, (C~ 1-4~)alquila (opcionalmente substituído com 1 ou mais halogênios), (C~ 1-4~)alquilóxi (opcionalmente substituído com 1 ou mais halogênios), halogênio, CF~ 3~ ou ciano; ou um sal farmaceuticamente aceitável do mesmo; a composições farmacêuticas compreendendo o mesmo e ao uso dos referidos derivados de 2-(benzimidazol- 1-il)-N-(4-feniltiazol-2-il)acetamida no tratamento de distúrbios mediados por TRPV1.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2161 de 05/06/2012.

04/30/2013

RPI 2208

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

06/05/2012

RPI 2161

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

08/23/2011

RPI 2120

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