Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
11/01/2011
RPI 2130
Application data
Number
PI0611519Type
Filing
Publication
PCT
EP2006003744 The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 04/24/2006 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Refractory Intellectual Property GMBH & CO. KG
AT
Inventors
M. W. (pessoa física)
DE
IPC Classification
Priority claims
EP
05 010807.5 · 05/19/2005
Abstract
DISPOSITIVO TAMPÃO PARA CONTROLAR UM FLUXO DE METAL LÍQUIDO. A presente invenção refere-se a um dispositivo tampão para controlar o fluxo de um metal líquido na abertura de saída de um recipiente metalúrgico, o mencionado dispositivo compreendendo: a) um corpo como uma haste (12) com um eixo longitudinal (A) e feito de material cerâmico refratário, b)um furo alongado (14) estendendo-se de uma superfície superior do mencionado corpo (12) na direção de sua extremidade inferior oposta, onde c) o mencionado furo (14) é equipado, pelo menos em sua porção adjacente à extremidade inferior do corpo (12), com pelo menos um meio de fixação (16) adaptado para receber o correspondente meio de fixação (18) de uma peça de cerâmica refratária (20, 22, 38) a ser fixada na extremidade inferior do corpo (12).
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#11.1.1
11/01/2011
RPI 2130
#11.1
07/26/2011
RPI 2116
#1.3
09/14/2010
RPI 2071
Esclareça o depositante a divergência existente entre os nomes dos inventores constantes da petição inicial e da publicação internacional WO 2006/122632 de 23/11/2006.
09/23/2008
RPI 1968
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