3.5
12/02/2008
RPI 1978
The application has been published in the RPI gazette and is now open to any interested party. It moves on to technical examination at the INPI.
Latest action published by the INPI: 12/02/2008. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Polaris Indústria e Comércio de Componentes Mecânicos Ltda EPP
SP, BR
Inventors
A. F. (pessoa física)
BR
Abstract
PROCESSO PARA TRATAMENTO DE RESÍDUOS SOLIDOS BASEADO EM REATOR COM TECNOLOGIA DE PLASMA VORTEX. A presente invenção trata de um processo relacionado à área de destruição de resíduos sólidos nocivos, o qual visa tornar inerte o material sólido por meio de sua fusão e a pós-combustão a plasma vortex como operação eficaz na destruição de moléculas complexas e resistentes ao calor, do tipo dioxinas e furanos. Além de eficaz, este processo apresenta baixo custo operacional aiém do baixo custo de seus equipamentos componentes. O processo é inovador por incorporar o plasma vortex ao longo de todas as etapas no reator. Trata-se de um plasma especial que gera radicais livres e elétrons energéticos que promovem a destruição das moléculas complexas, como: os toluenos, dioxinas e furanos e a redução de poluentes do tipo NO~ x~. Isso é conseguido graças á instalação de tochas de plasma vortex (8) nas câmaras: primária (2) e de fusão (3) e pela atuação de um pós-combustor a plasma vortex (20), com duas ou mais câmaras de plasma vortex (12) por onde se dá a dissociação e quebra de moléculas complexas da maneira mais eficaz, seguida de uma câmara de diluição (14) e queima dos gases combustíveis remanescentes. Um conjunto compacto em relação aos modelos tradicionais, de volume bem inferior ao de um pós-combustor convencional para a mesma vazão de gases.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
12/02/2008
RPI 1978
Referência: Conforme solicitado através da petição INPI/RJ 020080104737 de 31.07.2008.
09/30/2008
RPI 1969
Baseado no artigo 216 § 1° da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.
01/02/2008
RPI 1930
#2.1
08/22/2006
RPI 1859
From the same holder
Same category
Patent monitoring
Receive alerts on INPI events, decisions, and expiry dates for your portfolio.