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Official data from INPI

APARELHO DE EVAPORAÇÃO CONTÍNUA INDUSTRIAL

Arquivada/ExtintaInvention PatentPCT · JP2005022796

Application data

Number

PI0519818

Type

Invention Patent

Filing

12/12/2005

Publication

03/17/2009

PCT

JP2005022796

Progress at the INPI

  1. Filing12/12/05
  2. Publication03/17/09
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 10/23/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

A. C. (pessoa física)

JP

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Inventors

H. H. (pessoa física)

JP

K. M. (pessoa física)

JP

S. F. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2004-367637 · 12/20/2004

Abstract

APARELHO DE EVAPORAÇÃO CONTÍNUA INDUSTRIAL. É um objeto da presente invenção, no caso de um aparelho em que um líquido contendo material tendo um ponto de ebulição menor do que o do líquido é levado a fluir descendentemente ao longo de superficies externas de guias, durante este tempo o material de ponto de ebulição baixo é evaporado, de modo a proporcionar um aparelho específico que pode ser operado de modo estável durante um período de tempo prolongado em uma escala industrial de modo que não menos que 1 tonelada/hora de líquido é produzida através da evaporação e, além disso, para proporcionar um aparelho de evaporação industrial específico, de acordo com o qual não ocorrem problemas devido à degeneração causada por alguma parte do líquido residindo no aparelho durante um período de tempo prolongado. O presentes inventores chegaram à presente invenção quando descobriram que o objeto acima poderia ser atingido, e que um líquido concentrado ou polimero de condensação ou polímero termoplástico, de qualidade elevada e pureza elevada, poderia ser facilmente obtido, por uso de um aparelho de evaporação contínua industrial tendo uma estrutura especificada em que se tem guias que não tem, elas mesmas, uma fonte de calor, um membro de controle de trajeto de fluxo, tendo uma função de levar o líquido alimentado sobre uma placa perfurada, a partir de uma abertura de recepção dc líquido, a fluir principalmente a partir de uma porção periférica em direção a uma porção central da placa perfurada, é instalado em uma zona de alimentação de líquido, a placa perfurada e os furos na mesma correspondem às relações especificadas nas (fórmulas (6) e (7)), e as fórmulas (1) a (5), preferivelmente fórmulas (1) a (13), ou preferivelmente fórmulas (1) a (15), são atendidas.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2160 de 29/05/2012.

10/23/2012

RPI 2181

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 5ª e 6ª anuidades.

05/29/2012

RPI 2160

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

03/17/2009

RPI 1993

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