COMPOSIÇÕES PARA LIMPEZA DE SUBSTRATOS MICROELETRÔNICOS

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Abstract

COMPOSIÇÕES PARA LIMPEZA DE SUBSTRATOS MICROELETRÕNICOS. A presente invenção refere-se a uma composição de limpeza e polimento para limpar substratos microeletrônicos, a composição compreende: pelo menos um solvente de polimento orgânico, pelo menos uma amina nucleofilica, pelo menos um ácido fraco não contendo nitrogênio em uma quantidade suficiente para neutralizar cerca de 3% a 75% em peso da amina nucleofílica de tal maneira que a composição de polimento tenha um pH aquoso de cerca de 9,6 a 10,9, e o dito ácido fraco tenda um valor de pK em solução aquosa de 2,0 ou mais e um peso equivalente de menos de 140, pelo menos um composto para remoção de metal selecionado do grupo consistindo em dietileno glicol e dietileno glicolamina, e água, e método para limpar substratos microeletrônicos com essas composições.