Application data
Number
PI0509896Type
Filing
Publication
PCT
EP2005051522 The patent was granted on 07/12/2016 and later terminated. Protection ended before the full term and the technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 05/14/2024. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
B. S. (pessoa física)
DE
BASF SPECIALTY CHEMICALS HOLDING GMBH
CH
CIBA HOLDING INC.
CH
CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.
CH
IGM GROUP B.V.
NL
Inventors
D. W. (pessoa física)
US
E. S. (pessoa física)
US
G. L. (pessoa física)
US
J. J. (pessoa física)
US
Priority claims
US
60/562,513 · 04/15/2004
Abstract
PROCESSO DE FOTOCURA COM DIODO EMISSOR DE LUZ. A presente invenção refere-se a um processo para fotocurar certos sistemas de camadas espessas etilenicamente não-saturadas com uma fonte luminosa (LED) de diodo emissor de luz. As composições espessas curáveis são revestimentos espessos, camadas de gel, compostos e adesivos. O fotoiniciador é, pelo menos, um óxido de biacilfosfina ou óxido de monoacilfosfina.O processo fornece excelente cura de surperfície e cura em toda a extensão.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2769 de 30-01-2024 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
05/14/2024
RPI 2784
#21.6
Referente à 19ª anuidade.
01/30/2024
RPI 2769
#25.1
04/13/2021
RPI 2623
#25.1
03/30/2021
RPI 2621
#25.1
03/16/2021
RPI 2619
#25.4
03/02/2021
RPI 2617
#16.1
07/12/2016
RPI 2375
#9.1
04/26/2016
RPI 2364
#6.1
12/15/2015
RPI 2345
#7.1
05/19/2015
RPI 2315
#1.3
10/30/2007
RPI 1921
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