Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
05/25/2010
RPI 2055
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Official data from INPI
COMPOSIÇÕES DE REVESTIMENTO FOTOTERMICAMENTE SENSÍVEIS, PROCESSO, E, PLACA LITOGRÁFICA
ArquivadaInvention PatentPCT · US2005000260
Application data
Number
PI0506688Type
Invention Patent
Filing
01/05/2005
Publication
05/02/2007
PCT
US2005000260 Progress at the INPI
- Filing01/05/05
- Publication05/02/07
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned: examination was not requested within the 36 months following the 01/05/2005 filing, the deadline set by art. 33 of the Brazilian IP Act. The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 05/25/2010. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
Citiplate, Inc.
US
Inventors
P. S. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
11/028,795 · 01/04/2005
US
60/534,234 · 01/05/2004
Abstract
COMPOSIÇÕES DE REVESTIMENTO FOTOTERMICAMENTE SENSÍVEIS, PROCESO, E , PLACA LITOGRÁFICA Placas revestidas com composições fototermicamente sensíveis a múltiplas faixas do espectro eletromagnético e utilizadas para a preparação de placas de impressão litográficas, películas de impermeabilização colorida e semelhantes pelo processo de imagem de plaqueamento computacional compreendendo, um solvente, um polímero ou monômero de ligação cruzada e tintura absorvente de energia/ tintura laser/iniciador/sensibilizadores onde tintura absorvente de energia/ tintura laser/iniciador/sensibilizadores soa selecionados de tinturas/iniciador/sensibilizadores tendo aumentada sensibilidade a variação de faixas do espectro eletromagnético e onde a sensibilidade a placa da imagem é aumentada pelo pré-aquecimento anterior a revalação.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
12/15/2009
RPI 2032
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
05/02/2007
RPI 1895
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