DISPOSITIVO DE PULVERIZAÇÃO DE ALTA FREQÜÊNCIA

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Abstract

DISPOSITIVO DE PULVERIZAÇÃO DE ALTA FREQÜÊNCIA. A presente invenção refere-se a um dispositivo de pulverização de alta freqüência, que é apropriado para revestir substratos com um líquido de revestimento. De acordo com a invenção, o revestimento se faz com auxílio de uma unidade de pulverização (1), que é excitada por exemplo com um elemento piezocerâmico para oscilações freqüentes, sendo que o líquido de revestimento é excitado para ondas capilares, em cujas máximas amplitudes se ligam gotículas finíssimas do meio de revestimento. O dispositivo de pulverização de alta freqüência abrange ainda um suporte de substrato (8), com o qual o substrato (14) a ser revestido durante toda a operação de revestimento pode ser mantido em uma posição apropriada para o revestimento e, em seguida, pode ser movimento para a região de um dispositivo de secagem (6), onde o substrato (14) recém revestido pode ser seco. De preferência, o dispositivo de acordo com a invenção abrange um dispositivo de aspiração (10) para aspirar o excesso de pulverização, um dispositivo para têmpera da câmara de aplicação ou partes da câmara de aplicação e/ou das soluções de revestimento empregadas, bem como um sistema de placas de pólos e ânodos para produção de campos magnéticos e/ou campos eletrostáticos ou ionizantes para influenciar a distribuição de soluções de revestimento e/ou o alinhamento geométrico de componentes de partículas de tais soluções de revestimento.