Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2261 de 06/05/2014.
09/02/2014
RPI 2278
Application data
Number
PI0418903Type
Filing
Publication
PCT
JP2004009545 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 09/02/2014. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Taiyo Shokai Co., Ltd.
JP
Inventors
N. N. (pessoa física)
JP
IPC Classification
Abstract
FERRAMENTA DE POLIMENTO GIRATÓRIA. A presente invenção tem o objetivo de apresentar uma ferramenta de polimento giratória com alta durabilidade que possa fazer o acabamento de uma superfície polida com a aspereza da superfície desejada. Como meio para tal, um elemento de polimento 3 substancialmente cilíndrico é constituído por um par de unidades de polimento 9 em extremidades opostas e uma parte intermediária 10 apresentada entre o par de unidades de polimento 9. O elemento de polimento 3 é apoiado de forma a girar ao redor do seu eixo central e poli uma superfície polida com uma superfície periférica do mesmo. A unidade de polimento 9 inclui uma pluralidade de folhas de papel/tecido abrasivas 7 seguras por pressão por uma conexão interna de metal 8 e forma bordas periféricas das folhas de papel/tecido abrasivas 7 em uma configuração sinuosa. A parte intermediária 10 inclui uma pluralidade de folhas de papel/tecido abrasivas 7 laminadas no sentido do eixo seguras por pressão pelas unidades de polimento 9. A parte intermediária 10 é encaixada ao longo das unidades de polimento 9 para formar a borda periférica de cada folha de papel/tecido abrasiva 7 em configuração sinuosa. Nenhuma folga é criada entre as folhas de papel/tecido abrasivas 7, assim estabilizando a aspereza da superfície polida e aumentando a durabilidade do elemento de polimento 3.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2261 de 06/05/2014.
09/02/2014
RPI 2278
#8.6
Referente à 10ª anuidade.
05/06/2014
RPI 2261
#1.3
11/27/2007
RPI 1925
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