Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2260 de 29/04/2014.
08/26/2014
RPI 2277
Application data
Number
PI0418529Type
Filing
Publication
PCT
US2004037135 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Avantor Performance Materials, Inc.
US
Mallinckrodt Baker, Inc.
US
Inventors
C. H. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
60/543,801 · 02/11/2004
Abstract
OMPOSIÇÕES DE LIMPEZA PARA MICROELETRÔNICOS CONTENDO ÁCIDOS DE HALOGÊNIO OXIGENADOS, SAIS E DERIVADOS DOS MESMOS. A presente invenção refere-se a composições de limpeza de microeletrônicos para a limpeza de sbstratos microeletrônicos e especificamente compostos de limpeza úteis com, e tendo uma compatibilidade aumentada com substratos microeletrônicos caraterizados por dióxido de silício,dielétricos sensiveis de baixo-k e de alto-k e metalizações de cobre, tungstênio, tântalo, níquel, ouro, cobalto, paládio, platina, cromo, rutênio, rádio, háfnio, titânio, molibdênio, estanho e outras metalizações,bem como metelizações de substratos de AI ou AI(cu) e tecnologias interconectadas avançadas, são prividas por composições de limpeza de microeletrônicos compreendendo ácidos de halogênio, sais e derivados dos mesmos.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2260 de 29/04/2014.
08/26/2014
RPI 2277
#8.6
Referente à 9ª anuidade.
04/29/2014
RPI 2260
#25.4
Nome Alterado de: Mallinckrodt Baker, Inc.
08/09/2011
RPI 2118
#25.7
Sede alterada conforme solicitado na Petição nº 020080021179/RJ de 13/02/2008.
08/12/2008
RPI 1962
#1.3
05/15/2007
RPI 1897
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