Application data
Number
PI0405755Type
Filing
Publication
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 03/29/2016. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
X. C. (pessoa física)
US
Inventors
C. A. (pessoa física)
US
G. F. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
10/740,468 · 12/22/2003
Abstract
"SISTEMAS E MÉTODOS PARA MONITORAR E CONTROLAR A DENSIDADE DE CORRENTE EM UM SUBSTRATO DE CÓPIA". A densidade de corrente para substratos de cópia de largura variável é monitorada e controlada na unidade de transferência eletrostática de um dispositivo de reprodução eletrostática. A densidade de corrente através de um substrato de cópia é ajustada apropriadamente a fim de compensar a presença de efeito de corrente de dispersão de extremidade em um receptor. A tensão fornecida a uma unidade de geração de corrente em uma unidade de transferência eletrostática é controlada independentemente das propriedades características do substrato de cópia. A qualidade de reprodução de imagem é mantida em um dispositivo de reprodução eletrostática mesmo que a largura do substrato de cópia mude e na presença de efeito de corrente de dispersão de extremidade.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2343 de 01-12-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
03/29/2016
RPI 2360
#8.6
Referente à 11ª anuidade.
12/01/2015
RPI 2343
#3.1
08/02/2005
RPI 1804
#2.1
02/09/2005
RPI 1779
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