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Official data from INPI

VÁLVULA PARA CRIAÇÃO DE VÁCUO OU LIMPEZA DE RECIPIENTES, PROCESSO PARA CRIAR UM AMBIENTE COM VÁCUO E PROCESSO PARA LIMPEZA A VÁCUO

Em AnáliseInvention Patent

Application data

Number

PI0403219

Type

Invention Patent

Filing

08/12/2004

Publication

02/15/2005

Progress at the INPI

  1. Filing08/12/04
  2. Publication02/15/05
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 05/30/2017. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Planatc Tecnologia Eletrônica Automotiva LTDA.

SP, BR

Planatc Tecnologia Eletrônica Automotiva Ltda. - EPP

SP, BR

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Inventors

I. C. (pessoa física)

BR

Technical data

IPC Classification

Abstract

"VÁLVULA PARA CRIAÇÃO DE VÁCUO OU LIMPEZA DE RECIPIENTES, PROCESSO PARA CRIAR UM AMBIENTE COM VÁCUO E PROCESSO PARA LIMPEZA A VÁCUO". A válvula (1) é uma peça metálica, cilíndrica, composta, essencialmente, de um corpo cilíndrico (2) provido de rosca externa para aplicação ao dispositivo receptor, onde são previstos, ainda, meios de vedação (4) entre o mencionado corpo cilíndrico (2) e o referido dispositivo receptor (D). O dito corpo cilíndrico (2) é dotado, em uma extremidade, de aberturas radiais (5) que se comunicam com o seu interior, ao passo que uma sede circular recebe uma pequena válvula (1) de fluxo de ar (7). A extremidade oposta do mencionado corpo cilíndrico se finda junto a uma câmara de filtragem (8), que recepciona um elemento filtrante (9) com uma esfera interna (10), sendo a referida câmara alojada no interior de uma sede cilíndrica com aberturas (12) que se comunicam com o meio ambiente. Uma vez acoplada a válvula (1) o dispositivo receptor (D), este revela um conduto que se comunica com o recipiente onde será criado o vácuo ou submetido ao processo de limpeza, referido dispositivo receptor (D) revelando uma abertura alinhada com o descrito corpo cilíndrico, abertura esta por onde é injetado ar ou qualquer outro fluído, de modo a criar no citado recipiente o vácuo necessário, ou promover, por este efeito, a limpeza do mesmo, que é direcionado para a câmara de filtragem (8), onde a esfera (10) libera o fluxo pelas aberturas que se comunicam com o meio ambiente. Uma vez eliminado o fluxo de ar ou outro fluído, automaticamente a esfera (10) se desloca de modo a evitar o retorno de ar para o interior da válvula (1) , mantendo as características de vácuo no interior do recipiente.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Alteração de nome indeferida

#25.5

Indeferido o pedido de alteração de nome contido na petição 018130037465 de13/11/2013, conforme disposto no art. 59 da Lei 9279 de 14/05/1996, pelo fato do pedido depatente ter sido arquivado definitivamente na RPI 2342 de 24/11/2015.

05/30/2017

RPI 2421

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2318 de 09-06-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

11/24/2015

RPI 2342

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 11ª anuidade.

06/09/2015

RPI 2318

Alteração de nome deferida

#25.4

Alterado de: Planatc Tecnologia Eletrônica Automotiva Ltda.

09/21/2010

RPI 2072

Publicação antecipada

#3.2

02/15/2005

RPI 1780

Pedido de patente depositado

#2.1

10/26/2004

RPI 1764

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