Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2129 de 25/10/2011.
05/08/2012
RPI 2157
Application data
Number
PI0312706Type
Filing
Publication
PCT
CH2003000459 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Tecpharma Licensing AG
CH
Inventors
F. K. (pessoa física)
CH
T. G. (pessoa física)
CH
IPC Classification
Priority claims
DE
102 32 158.2 · 07/16/2002
Abstract
"APARELHO APLICADOR PARA A APLICAÇÃO DE UM PRODUTO FLUIDO E MÓDULO RESERVATÓRIO PARA O APARELHO APLICADOR". A presente invenção se refere a um aparelho aplicador para aplicar um produto injetável que apresenta uma carcaça com um reservatório para o produto, um êmbolo contido no reservatório e que pode ser deslocado numa direção de avanço, uma biela do êmbolo que atua sobre o êmbolo e que pode ser movimentada no sentido da direção do avanço, bem como um mecanismo de travamento, o qual serve para impedir um movimento da biela do êmbolo orientado em sentido contrário à direção do avanço. O mecanismo de travamento abrange ou consiste de um primeiro dispositivo de travamento formado pela biela do êmbolo e um segundo dispositivo de travamento que não pode ser movimentado em sentido contrário à direção do avanço, relativamente à carcaça, que estão em engrenagem permanente. De preferência, o segundo dispositivo de travamento também não pode ser movimentado no sentido da direção do avanço, relativamente à carcaça.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2129 de 25/10/2011.
05/08/2012
RPI 2157
#8.6
Referente à 8ª anuidade(s).
10/25/2011
RPI 2129
#1.3
04/26/2005
RPI 1790
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