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Official data from INPI

MÉTODO PARA REMOÇÃO DE REFUGO PROVENIENTE DE PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE ÁCIDO ACRÍLICO E PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE ÉSTER ACRÍLICO

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0303282

Type

Invention Patent

Filing

08/28/2003

Publication

07/26/2005

Progress at the INPI

  1. Filing08/28/03
  2. Publication07/26/05
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 07/19/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

Nippon Shokubai CO., LTD.

JP

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Inventors

H. H. (pessoa física)

JP

K. S. (pessoa física)

JP

T. N. (pessoa física)

JP

Y. M. (pessoa física)

JP

Technical data

Priority claims

JP

2002-273333 · 09/19/2002

Abstract

"MÉTODO PARA REMOÇÃO DE REFUGO PROVENIENTE DE PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE ÁCIDO ACRÍLICO E PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE ÉSTER ACRÍLICO". Esta invenção propicia um método para tratamento eficiente do material de refugo proveniente de um processo para produção de ácido acrílico e de um éster acrílico. Isto é um método para a remoção de material de refugo, em que pelo menos um material de refugo selecionado a partir do grupo que consiste em óleo de refugo, água residual e gás de escapamento emitidos a partir de um processo para produção de ácido acrílico é purificado conjuntamente com pelo menos um material de refugo selecionado a partir do grupo que consiste em óleo de refugo, água residual e gás de escapamento emitidos a partir de um processo para produção de um éster acrílico. A eficácia do tratamento é aumentada pelo tratamento simultâneo do material de refugo proveniente de um processo conjunto para as produções de ambos.

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.

07/19/2011

RPI 2115

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 6ª anuidade.

02/23/2010

RPI 2042

Publicação do pedido de patente

#3.1

07/26/2005

RPI 1803

6.7

Baseado no art. 216 § 1º da LPI, apresente cópia autenticada da procuração para que esta seja aceita.

06/07/2005

RPI 1796

Pedido de patente depositado

#2.1

12/09/2003

RPI 1718

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