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Official data from INPI

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA A MEDIÇÃO DE PLANICIDADE DE TIRAS

Arquivada/ExtintaInvention Patent

Application data

Number

PI0302094

Type

Invention Patent

Filing

06/02/2003

Publication

09/08/2004

Progress at the INPI

  1. Filing06/02/03
  2. Publication09/08/04
  3. Abandoned
  4. Allowance
  5. Grant
  6. In force

The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.

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Latest action published by the INPI: 04/12/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.

Applicants and inventors

Applicants

BWG Bergwerk-Und Walzwerk Maschinenbau GMBH

DE

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Inventors

A. N. (pessoa física)

DE

R. N. (pessoa física)

DE

Technical data

IPC Classification

Priority claims

DE

102 24 938.5 · 06/04/2002

Abstract

"PROCESSO E DISPOSITIVO PARA A MEDIÇÃO DE PLANICIDADE DE TIRAS". A presente invenção tem como objetos um processo e um dispositivo para a medição de planicidade de tiras (1), em particular, de tiras de metal (1) durante a passagem em linhas de processamento de tiras. Nesse caso, a partir das forças de tração (F~ x~) que atuam sobre a tira (1), são determinadas, pelo menos, por seção, tensões de tração ( ~ x~(y), através da largura da tira (B ou y). Para esse fim, de acordo com a invenção, as forças de tração (F~ x~) são medidas sucessivamente e somadas através da largura da tira (B ou y). Da função de soma de forças (F(y) obtida dessa forma, através da largura da tira (B ou y) é derivada uma função de distribuição da tensão de tração ( ~ x~(y).

Prosecution history

Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.

04/12/2011

RPI 2101

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente a 6º anuidade.

02/23/2010

RPI 2042

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/08/2004

RPI 1757

Pedido de patente depositado

#2.1

09/02/2003

RPI 1704

Patent monitoring

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