Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Não apresentada a guia de cumprimento de exigência.
07/03/2012
RPI 2165
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Official data from INPI
"PROCESSO CONTÍNUO PARA A PRODUÇÃO DE ALOFANATOS MDI".
Arquivada/ExtintaInvention Patent
Application data
Number
PI0302068Type
Invention Patent
Filing
06/12/2003
Publication
08/17/2004
Progress at the INPI
- Filing06/12/03
- Publication08/17/04
- Abandoned
- Allowance
- Grant
- In force
The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 07/03/2012. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants and inventors
Applicants
B. C. (pessoa física)
US
Inventors
H. I. (pessoa física)
US
W. M. (pessoa física)
US
W. S. (pessoa física)
US
Technical data
IPC Classification
Priority claims
US
10/170,915 · 06/13/2002
Abstract
"PROCESSO CONTÍNUO PARA A PRODUÇÃO DE ALOFANATOS MDI". Esta invenção refere-se a um processo contínuo para a produção de diisocianatos de difenilmetano modificado por alofanato tendo um conteúdo de grupo de NCO de 19 a 32% e um conteúdo de uretano menor do que 2% em área por análise GPC. O processo compreende (1) reagir continuamente (a) diisocianato de difenilmetano e (b) um álcool, na presença de (c) pelo menos 25 ppm de um catalisador de alofanato, com base no peso combinado do diisocianato de difenilmetano e do álcool, em um reator em um ambiente livre de oxigênio; (2) continuamente tratar o produto saindo do reator com um bloqueador catalisador na temperatura de reação; e (3) resfriar o produto resultante.
Prosecution history
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Conforme artigo 10º da resolução 124/06, cabe ser arquivado referente ao não recolhimento da 9ª anuidade.
03/13/2012
RPI 2149
Deferimento
#9.1
06/21/2011
RPI 2111
Publicação do pedido de patente
#3.1
08/17/2004
RPI 1754
Pedido de patente depositado
#2.1
09/02/2003
RPI 1704
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