Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.
07/19/2011
RPI 2115
Application data
Number
PI0211639Type
Filing
Publication
PCT
US2002024716 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
Talk to a specialistLatest action published by the INPI: 07/19/2011. We update with every new RPI gazette, published weekly.
Applicants
Elisha Holding LLC
US
Inventors
B. P. (pessoa física)
US
B. F. (pessoa física)
US
C. B. (pessoa física)
US
D. S. (pessoa física)
US
R. H. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
60/310,007 · 08/03/2001
US
60/381,024 · 05/16/2002
Abstract
"MÉTODO SEM ELETRICIDADE PARA TRATAMENTO DE UM SUBSTRATO, MEIO AQUOSO PARA USO EM UM PROCESSO SEM ELETRICIDADE PARA TRATAMENTO DE UMA SUPERFÍCIE CONDUTORA E ARTIGO COMPREENDENDO UM SUBSTRATO CONDUTOR DE ELETRICIDADE". A invenção se refere a um processo para formação de um depósito sobre a superfície de uma superfície metálica ou condutora. O processo emprega um processo sem eletricidade para depositar um silicato contendo revestimento ou filem sobre uma superfície metálica ou condutora.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2042 de 23/02/2010.
07/19/2011
RPI 2115
#8.6
Referente a 6ª e 7ª anuidades.
02/23/2010
RPI 2042
#1.3
06/28/2005
RPI 1799
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