Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2225 de 27/08/2013.
02/18/2014
RPI 2250
Application data
Number
PI0211054Type
Filing
Publication
PCT
US2002021374 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Avantor Performance Materials, Inc.
US
Mallinckrodt Baker, Inc.
US
Inventors
C. H. (pessoa física)
US
Priority claims
US
60/304,312 · 07/09/2001
Abstract
"COMPOSIÇÕES ALCALINAS ISENTAS DE AMÔNIA PARA A LIMPEZA DE MICROELETRÔNICOS COM COMPATIBILIDADE APERFEIÇOADA PELO SUBSTRATO". A presente invenção refere-se a composições de limpeza isentas de amônia para a limpeza de substratos microeletrônicos e particularmente tais composições de limpeza úteis para e tendo compatibilidade aperfeiçoada com substratos microeletrônicos caracterizados por metalização com cobre e dielétricos porosos sensíveis e com alto- e baixo- . Composições de limpeza para a remoção de fotoresistentes, limpeza de resíduos de compostos orgânicos, organometálicos e inorgânicos gerados a plasma e limpeza de resíduos de processos de planarização. A composição de limpeza contém uma ou mais bases fortes que não produzem amônio contendo contra-íons positivamente carregados não nucleofílicos e um ou mais solventes de amida estericamente impedidas.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2225 de 27/08/2013.
02/18/2014
RPI 2250
#8.6
referente a 11ª anuidade
08/27/2013
RPI 2225
#25.4
Nome Alterado de: Mallinckrodt Baker, Inc.
08/09/2011
RPI 2118
#25.7
Sede alterada conforme solicitado na Petição nº 020080021179/RJ de 13/02/2008.
08/19/2008
RPI 1963
#1.3
07/20/2004
RPI 1750
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