Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2225 de 27/08/2013.
02/18/2014
RPI 2250
Application data
Number
PI0210895Type
Filing
Publication
PCT
US2002021436 The application was abandoned for failure to pay the annuities (art. 86 of the Brazilian IP Act). The technology is in the public domain in Brazil.
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Applicants
Avantor Performance Materials, Inc.
US
Mallinckrodt Baker, Inc.
US
Inventors
C. H. (pessoa física)
US
IPC Classification
Priority claims
US
60/304,033 · 07/09/2001
Abstract
"COMPOSIÇÕES DE LIMPEZA DE MICROELETRÔNICOS CONTENDO SAIS DE FLUORETO LIVRES DE AMÔNIA PARA REMOÇÃO SELETIVA DO FOTORRESISTE E LIMPEZA DE RESÍDUO DE CINZA DE PLASMA". A presente invenção refere-se a composições de limpeza sem amônia, sem HF, para limpeza de fotorresistores e resíduos de cinza de plasma de substratos microeletrônicos, e particularmente tais composições de limpeza úteis com e tendo compatibilidade aperfeiçoada com substratos microeletrônicos caracterizados por dielétricos porosos sensíveis e de baixo a alto e metalização de cobre. A composição de limpeza contém um ou mais sal de fluoreto que não produz amônio, que não produz HF, (sal de fluoreto de amônio quaternário, de não-amônio) em uma matriz de solvente adequada.
Publications in the Brazilian Industrial Property Gazette (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2225 de 27/08/2013.
02/18/2014
RPI 2250
#8.6
referente a 11ª anuidade
08/27/2013
RPI 2225
#25.4
Nome Alterado de: Mallinckrodt Baker, Inc.
08/09/2011
RPI 2118
#25.7
Sede alterada conforme solicitado na Petição nº 020080021179/RJ de 13/02/2008.
08/19/2008
RPI 1963
#1.3
06/22/2004
RPI 1746
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